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Produktionslösungen für 300 mm Wafer- und WBG-Materialbearbeitung.

Unternehmensprofil

centrotherm ist einer der führenden Entwickler und Hersteller von Produktionsanlagen für verschiedene Halbleitertechnologien und -anwendungen wie Logik- und Speichermedien (z.B. Flash, DRAM), Leistungshalbleiter (z.B. Si, SiC), LED, SMT, MEMS oder Sensorik. Bei Hochtemperaturöfen zum Post Implantation Annealing und Hydrogen Annealing von 150 mm SiC-Wafern ist centrotherm führender Anbieter. Das centrotherm Produktportfolio umfasst horizontale (bis zu 300 mm Waferdurchmesser) und vertikale Batchöfen (atmosphärische oder Vakuumprozesse), Hochtemperaturöfen (Annealing bis 2000°C, Oxidation bis 1500°C), Einzelwafersysteme (RTP, Niedertemperatur-Mikrowellenoxidation).

Für die Mikroelektronikindustrie bieten wir Vakuumlötsysteme und Durchlauföfen für DCB, LTCC und MLCC.

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