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Fotolithografische Prozessanlagen, Spin&Spray-Beschichtung. Temporäres Bonding.

Unternehmensprofil

Osiris International ist ein Hersteller von Maschinen, der auf fotolithografische Prozessanlagen für die Halbleiter- und Mikrosystemtechnik (MEMS) spezialisiert ist.

Anwendungsbereiche:

Fotolack Spin & Spray Beschichtung, Entwickeln, Backen,
Nassreinigung, Post-CMP-Reinigung, Ätzen, Stripping,
Temporäres Bonden & Debonden.

Neben der Produktion unserer Maschinen, die von Laborsystemen über halbautomatische bis hin zu vollautomatischen Systemen reichen, bieten wir auch Subsysteme wie PR-Dispensersysteme (Pumpen, Spritzen) und Medienversorgungsschränke mit verschiedenen Kanisterausführungen an.
Wir liefern unsere Technologien weltweit an große Halbleiterhersteller und international renommierte Forschungs- und Entwicklungseinrichtungen.

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